GB/T 14143-1993
300-900μm硅片間隙氧含量紅外吸收測量方法
Infrared Absorption Measurement Method of Oxygen Content in the Gap of 300-900μm Silicon Wafer
GBT14143-1993, GB14143-1993
2006-11
- 標(biāo)準(zhǔn)號
- GB/T 14143-1993
- 別名
- GBT14143-1993, GB14143-1993
- 發(fā)布
- 1993年
- 總頁數(shù)
- 6頁
- 發(fā)布單位
- 國家質(zhì)檢總局
- 替代標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 1557-2006
- 當(dāng)前最新
- GB/T 1557-2018
- 適用范圍
- 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用紅外吸收法測定厚度為300～900μm的硅片間隙氧含量的方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于室溫電阻率大于0.1Ω·cm的硅片間隙氧含量的測量。測量范圍為3×1016atcm-3至間隙氧在硅中的最大固溶度。