GJB 8149-2013
光學(xué)元件超高反射率測量方法 衰蕩法
Measurement for super-high reflectivity of optical element.Cavity ring-down method
- 標(biāo)準(zhǔn)號
- GJB 8149-2013
- 發(fā)布
- 2013年
- 總頁數(shù)
- 10頁
- 發(fā)布單位
- 國家軍用標(biāo)準(zhǔn)-總裝備部
- 當(dāng)前最新
- GJB 8149-2013
- 適用范圍
- 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用光腔衰蕩法測量激光光學(xué)元件超高反射率的方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于反射率大于99.9%的平面光學(xué)元件以及工作角度小于10°、曲率半徑大于10m的球面光學(xué)元件超高反射率測量。其他光學(xué)元件高反射率的測量可以參照使用。
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專題
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