T/CNIA 0175-2022
多晶硅生產(chǎn)固定污染源含氫排氣中氣態(tài)污染物采樣方法

Sampling method for gaseous pollutants in hydrogen-containing exhaust gas from stationary pollution sources in polycrystalline silicon production

標(biāo)準(zhǔn)號

T/CNIA 0175-2022

發(fā)布

2022年

發(fā)布單位

中國團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)

當(dāng)前最新

T/CNIA 0175-2022

 

 

適用范圍

本文件規(guī)定了多晶硅生產(chǎn)中淋洗塔及其他固定污染源含氫排放口中氣態(tài)污染物的采樣方法。 本文件適用于多晶硅生產(chǎn)中淋洗塔及其他固定污染源含氫排放口中氣態(tài)污染物的采樣。

專題

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