ASTM E115-97
光學(xué)發(fā)射光譜分析中照相處理的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程（2002 年撤回）
Standard Practice for Photographic Processing in Optical Emission Spectrographic Analysis (Withdrawn 2002)
- 標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
- ASTM E115-97 中文首頁
- 發(fā)布
- 2021年
- 總頁數(shù)
- 5頁
- 發(fā)布單位
- 美國材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)
- 當(dāng)前最新
- ASTM E115-97
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- ASTM E116 ASTM E135
- 適用范圍
- 1.1 本實(shí)踐涵蓋了光學(xué)發(fā)射光譜分析中使用的印版和膠片的照相處理，以獲得分析光譜的永久圖像。
1.2 本標(biāo)準(zhǔn)并不旨在解決與其使用相關(guān)的所有安全問題（如果有）。本標(biāo)準(zhǔn)的使用者有責(zé)任在使用前建立適當(dāng)?shù)陌踩徒】祵?shí)踐并確定監(jiān)管限制的適用性。第 8 節(jié)和注釋 10 中給出了具體的預(yù)防措施說明。
ASTM E115-97相似標(biāo)準(zhǔn)
ASTM E116-97 光譜化學(xué)分析中照相光度法的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程（2002 年撤回）
ASTM B597-92(1998) 鋁合金熱處理標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程（2002 年撤回）
ASTM E172-90(1999) 在發(fā)射光譜化學(xué)分析中描述和指定激發(fā)源的實(shí)踐（2001 年撤回）
ASTM E158-86(1996)e1 在光學(xué)發(fā)射光譜化學(xué)分析中將強(qiáng)度轉(zhuǎn)換為濃度的基本計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐（2004 年撤回）
ASTM E227-90(1996) 用點(diǎn)對面技術(shù)對鋁和鋁合金進(jìn)行光學(xué)發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)測試方法（2002 年撤回）