二次離子質(zhì)譜儀測試方法
本專題涉及二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準有104條。
國際標準分類中，二次離子質(zhì)譜儀測試方法涉及到分析化學、半導體材料、金屬材料試驗、計量學和測量綜合、半導體分立器件、核能工程、水質(zhì)、食品試驗和分析的一般方法、燃料、空氣質(zhì)量、無機化學。
在中國標準分類中，二次離子質(zhì)譜儀測試方法涉及到基礎標準與通用方法、元素半導體材料、半金屬及半導體材料分析方法、、半金屬與半導體材料綜合、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、水環(huán)境有毒害物質(zhì)分析方法、輕金屬及其合金分析方法、電子光學與其他物理光學儀器、核材料、核燃料及其分析試驗方法、核材料、核燃料、食品衛(wèi)生、基本有機化工原料、化學助劑基礎標準與通用方法、大氣環(huán)境有毒害物質(zhì)分析方法、煤炭分析方法。
國際標準化組織，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- ISO 13084:2018 表面化學分析 - 二次離子質(zhì)譜法 - 用于飛行時間二次離子質(zhì)譜儀的質(zhì)譜的校準
- ISO 13084:2011 表面化學分析.二次離子質(zhì)譜分析法.飛行時間二次離子質(zhì)譜儀用質(zhì)量標度的校準
- ISO/TS 22933:2022 表面化學分析.二次離子質(zhì)譜法.模擬離子質(zhì)譜中質(zhì)量分辨率的測量方法
- ISO 20411:2018 表面化學分析.二次離子質(zhì)譜法.單離子計數(shù)動態(tài)二次離子光譜法中飽和強度的校正方法
- ISO 178:1975 表面化學分析.二次離子質(zhì)譜法.單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析儀中強度標度的線性
- ISO 17862:2013 表面化學分析——二次離子質(zhì)譜法——單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析儀中強度標度的線性
- ISO 178:2019 表面化學分析.二次離子質(zhì)譜法.單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析儀中強度標度的線性
- ISO 17862:2022 表面化學分析.二次離子質(zhì)譜法.單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析儀中強度標度的線性
- ISO 17560:2014 表面化學分析 - 二次離子質(zhì)譜法 - 硅在硅中深度分析的方法
- ISO 22415:2019 表面化學分析.二次離子質(zhì)譜法.有機材料氬團簇濺射深度剖面測定屈服體積的方法
- ISO 17109:2022 表面化學分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測定濺射速率的方法
- ISO 17109:2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
- ISO 23812:2009 表面化學分析.次級離子質(zhì)譜測定法.使用多δ層參考材料的硅深度校準方法
日本工業(yè)標準調(diào)查會，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- JIS K 0157:2021 表面化學分析. 二次離子質(zhì)譜法. 渡越時間二次離子質(zhì)譜儀的質(zhì)量標度的校準
- JIS K 0158:2021 表面化學分析. 二次離子質(zhì)譜法. 單離子計數(shù)動態(tài)二次離子質(zhì)譜法中飽和強度的校正方法
- JIS K 0164:2023 表面化學分析二次離子質(zhì)譜硅中硼深度分析方法
- JIS K 0155:2018 表面化學分析 二次離子質(zhì)譜法 單離子計數(shù)時間飛行質(zhì)量分析儀中強度刻度的線性度
- JIS K 0156:2018 表面化學分析-二次離子質(zhì)譜法-使用多δ層參考材料的硅深度校準方法
- JIS K 0169:2012 表面化學分析.二次離子質(zhì)譜(SIMS).帶多重亞鉛層對照物的深度分辨率參數(shù)估算方法
英國標準學會，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- BS ISO 20411:2018 表面化學分析 二次離子質(zhì)譜分析 單離子計數(shù)動態(tài)二次離子質(zhì)譜飽和強度校正方法
- BS EN ISO 22125-2:2019 水質(zhì) Technetium-99 使用電感耦合等離子體質(zhì)譜 (ICP-MS) 的測試方法
- BS ISO 22415:2019 表面化學分析 二次離子質(zhì)譜分析 有機材料氬簇濺射深度剖析中產(chǎn)量體積的測定方法
- BS ISO 17109:2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
- BS ISO 17109:2022 表面化學分析 深度剖析 使用單層和多層薄膜的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率的測定方法...
- 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化學分析 深度剖析 使用單一和……的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率測定方法
- PD IEC/TR 62660-4:2017 用于驅(qū)動電動道路車輛的二次鋰離子電池 IEC 62660-3 內(nèi)部短路測試的候選替代測試方法
- 18/30371766 DC BS EN ISO 22125-2 水質(zhì) 锝-99 第2部分：使用電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)的測試方法
行業(yè)標準-電子，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- SJ/T 11493-2015 硅襯底中氮濃度的二次離子質(zhì)譜測量方法
- SJ/T 11498-2015 重摻硅襯底中氧濃度的二次離子質(zhì)譜測量方法
美國材料與試驗協(xié)會，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- ASTM F1366-92(1997)e1 用次級離子質(zhì)譜儀測量重摻雜硅基底中氧含量的測試方法
- ASTM C1287-95(2001) 用電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定二氧化鈾中雜質(zhì)的標準試驗方法
- ASTM D5673-03 用感應耦合等離子體質(zhì)譜儀測定水中元素的標準試驗方法
- ASTM D5673-05 用感應耦合等離子體質(zhì)譜儀測定水中元素的標準試驗方法
- ASTM D5673-96 用感應耦合等離子體質(zhì)譜儀測定水中元素的標準試驗方法
- ASTM D5673-02 用感應耦合等離子體質(zhì)譜儀測定水中元素的標準試驗方法
- ASTM F1617-98 用次級離子質(zhì)譜測定法(SIMS)測定表面鈉,鋁,鉀-硅和EPI襯底的標準試驗方法
- ASTM D5996-05 用聯(lián)機離子色譜法測量高純度水中陰離子雜質(zhì)的標準試驗方法
- ASTM E2469-06 離子色譜法測定單乙二醇中氯化物的標準試驗方法
- ASTM C1287-03 用感應耦合等離子體質(zhì)譜法測定二氧化鈾中混雜物的標準試驗方法
- ASTM C1832-21 利用熱離子質(zhì)譜儀改進總蒸發(fā)(MTE)法測定鈾同位素成分的標準試驗方法
- ASTM C1844-16 硝酸稀釋后電感耦合等離子體質(zhì)譜儀測定尿液中鈾的標準試驗方法
- ASTM C1832-16 利用熱離子質(zhì)譜儀的改進總蒸發(fā) (MTE) 法測定鈾同位素成分的標準試驗方法
- ASTM E2469-08a 用離子色譜法測定一,二和三乙烯基乙二醇中氯化物的標準試驗方法
- ASTM C1871-22 用熱電離質(zhì)譜儀用雙峰法測定鈾同位素組成的標準試驗方法
- ASTM D5673-10 通過電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定水中元素的標準測試方法
- ASTM C1871-18a 用熱電離質(zhì)譜儀用雙尖峰法測定鈾同位素組成的標準試驗方法
- ASTM C1871-18 用熱電離質(zhì)譜儀用雙尖峰法測定鈾同位素組成的標準試驗方法
- ASTM C1287-18 通過電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定核級鈾化合物雜質(zhì)的標準測試方法
- ASTM D6357-19 用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法電感耦合等離子體質(zhì)譜法和石墨爐原子吸收光譜法測定煤中痕量元素的標準試驗方法
- ASTM D6357-21 用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法電感耦合等離子體質(zhì)譜法和石墨爐原子吸收光譜法測定煤中痕量元素的標準試驗方法
- ASTM C1287-95 用誘導數(shù)個等離子體物質(zhì)光譜測定法對二氧化鈾中混雜物的標準測定方法
- ASTM C1287-10 感應耦合等離子體質(zhì)譜法測定核級鈾化合物中雜質(zhì)的標準試驗方法
- ASTM E1552-93(1998) 用D-C氬等離子體光譜儀測定鋯和鋯合金中鉿的標準試驗方法
- ASTM C1625-19 通過熱離子化質(zhì)譜法測定鈾和钚濃度和同位素豐度的標準測試方法
- ASTM C1432-03 測定钚中雜質(zhì)的標準試驗方法:酸溶解、離子交換矩陣分離和感應耦合等離子體-原子發(fā)射光譜法(ICP/AES)分析
- ASTM C1432-99 測定钚中雜質(zhì)的標準試驗方法:酸溶解、離子交換矩陣分離和感應耦合等離子體-原子發(fā)射光譜法(ICP/AES)分析
- ASTM C1432-03(2008) 測定钚中雜質(zhì)的標準試驗方法:酸溶解,離子交換矩陣分離和感應耦合等離子體.原子發(fā)射光譜法(ICP/AES)分析
- ASTM C1432-15 測定钚中雜質(zhì)的標準試驗方法: 酸溶解, 離子交換矩陣分離和感應耦合等離子體-原子發(fā)射光譜法 (ICP/AES) 分析
- ASTM F1710-97 使用高分辨率發(fā)光質(zhì)譜儀測試電子級鈦中痕量金屬雜質(zhì)的標準試驗方法
- ASTM F1710-97(2002) 使用高分辨率發(fā)光質(zhì)譜儀測試電子級鈦中痕量金屬雜質(zhì)的標準試驗方法
- ASTM D7439-08 用電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定大氣顆粒物元素的標準試驗方法
- ASTM D5673-15 使用電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定水中元素含量的標準試驗方法
- ASTM D5673-16 使用電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定水中元素含量的標準試驗方法
- ASTM C1832-23 用熱電離質(zhì)譜儀用改進的全蒸發(fā)（MTE）法測定鈾同位素組成的標準試驗方法
- ASTM C1832-22 用熱電離質(zhì)譜儀用改進的全蒸發(fā)（MTE）法測定鈾同位素組成的標準試驗方法
- ASTM E2838-11 依次使用溶劑萃取和液相色譜/串聯(lián)質(zhì)譜法(LC/MS/MS)測定凸輪上硫二甘醇的標準試驗方法
- ASTM E2823-17 通過電感耦合等離子體質(zhì)譜法分析鎳合金的標準測試方法（基于性能）
- ASTM D7439-21 用電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定空氣顆粒物中元素的標準試驗方法
- ASTM C1637-06 钚金屬中雜質(zhì)測定的標準測試方法:酸消解和電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）分析
- ASTM D7439-14 使用電感耦合等離子體質(zhì)譜法測量大氣顆粒物中元素的標準試驗方法
- ASTM D6357-00a 用感應耦合等離子體原子發(fā)散、感應耦合等離子質(zhì)譜和石墨爐原子吸收光譜法測定由煤、焦炭和燃燒殘余物中痕量元素的試驗方法
國家質(zhì)檢總局，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- GB/T 42263-2022 硅單晶中氮含量的測定 二次離子質(zhì)譜法
- GB/T 24580-2009 重摻n型硅襯底中硼沾污的二次離子質(zhì)譜檢測方法
- GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次離子質(zhì)譜檢測方法
- GB/T 32495-2016 表面化學分析 二次離子質(zhì)譜 硅中砷的深度剖析方法
- GB/T 29851-2013 光伏電池用硅材料中B、Al受主雜質(zhì)含量的二次離子質(zhì)譜測量方法
- GB/T 29852-2013 光伏電池用硅材料中P、As、Sb施主雜質(zhì)含量的二次離子質(zhì)譜測量方法
- GB/T 14571.5-2016 工業(yè)用乙二醇試驗方法 第5部分：氯離子的測定 離子色譜法
- GB/T 32281-2015 太陽能級硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的測定 二次離子質(zhì)譜法
- GB/T 42274-2022 氮化鋁材料中痕量元素（鎂、鎵）含量及分布的測定 二次離子質(zhì)譜法
- GB/T 22572-2008 表面化學分析 二次離子質(zhì)譜 用多δ層參考物質(zhì)評估深度分辨參數(shù)的方法
中國團體標準，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- T/CAIA YQ006-2018 離子色譜儀性能測試方法
- T/CASAS 010-2019 氮化鎵材料中痕量雜質(zhì)濃度及分布的二次離子質(zhì)譜檢測方法
- T/CASAS 009-2019 半絕緣碳化硅材料中痕量雜質(zhì)濃度及分布的二次離子質(zhì)譜檢測方法
國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標準化管理委員會，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- GB/T 39144-2020 氮化鎵材料中鎂含量的測定 二次離子質(zhì)譜法
- GB/T 40109-2021 表面化學分析 二次離子質(zhì)譜 硅中硼深度剖析方法
- GB/T 41153-2021 碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質(zhì)含量的測定 二次離子質(zhì)譜法
- GB/T 41064-2021 表面化學分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法
韓國科技標準局，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- KS D ISO 18114-2005(2020) 表面化學分析二次離子質(zhì)譜法離子注入標準物質(zhì)相對靈敏度因子的測定
- KS D ISO 20341-2005(2020) 表面化學分析二次離子質(zhì)譜法用多δ層標準物質(zhì)估算深度分辨參數(shù)的方法
- KS D ISO 17560-2003(2018) 表面化學分析-二次離子質(zhì)量分析-硅內(nèi)硼深度分布測量方法
- KS D ISO 14237-2003(2018) 表面下學分析-二次離子質(zhì)量分析-硅內(nèi)均勻添加的硼原子濃度的測量方法
KR-KS，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- KS D ISO 14237-2003(2023) 表面下學分析-二次離子質(zhì)譜分析-硅內(nèi)均勻添加硼原子濃度的測定方法
- KS D ISO 17560-2003(2023) 表面化學分析-二次離子質(zhì)譜分析-硅內(nèi)硼深度分布測定場法
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局、中國國家標準化管理委員會，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- GB/T 34826-2017 四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀性能的測定方法
法國標準化協(xié)會，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- NF EN ISO 22125-2:2019 水質(zhì) - Technetium-99 - 第 2 部分：質(zhì)譜聯(lián)用誘導等離子體測試方法）
- NF ISO 23812:2009 表面化學分析 二次離子質(zhì)譜 使用多三角層狀參比材料的硅深度校準方法
未注明發(fā)布機構，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- BS ISO 20341:2003(2010) 表面化學分析 二次離子質(zhì)譜 多δ層參考材料估計深度分辨率參數(shù)的方法
國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- SN/T 4585-2016 出口食品中甲基砷酸、二甲次胂酸殘留量的測定 液相色譜-電感耦合等離子體質(zhì)譜法
ES-UNE，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- UNE-EN ISO 22125-2:2019 水質(zhì) Technetium-99 第2部分：使用電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)的測試方法
德國標準化學會，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- DIN EN ISO 22125-2:2019-10 水質(zhì) Technetium-99 第2部分：使用電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)的測試方法
- DIN EN ISO 22125-2:2019 水質(zhì) Technetium-99 第2部分：使用電感耦合等離子體質(zhì)譜法（ICP-MS）的測試方法（ISO/FDIS 22125-2:2019）
內(nèi)蒙古自治區(qū)標準，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- DB15/T 688.4-2014 二氧化釷粉末化學分析方法 第4部分：二氧化釷粉末中鈾、鉿、銻、鉍的測定—電感耦合等離子體質(zhì)譜法
GOSTR，關于二次離子質(zhì)譜儀測試方法的標準
- GOST R 58366-2019 用于驅(qū)動電動道路車輛的二次鋰離子電池 第4部分 IEC 62660-3 內(nèi)部短路測試的替代測試方法
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可能用到的儀器設備
