質(zhì)譜 分析 儀 離子

本專題涉及質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)有60條。

國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，質(zhì)譜 分析 儀 離子涉及到分析化學(xué)、實驗室醫(yī)學(xué)、光學(xué)和光學(xué)測量、金屬材料試驗、教育、醫(yī)療設(shè)備、建筑材料、印制電路和印制電路板、水質(zhì)。

在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，質(zhì)譜 分析 儀 離子涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、醫(yī)用化驗設(shè)備、色譜儀、貴金屬及其合金分析方法、教學(xué)專用儀器、化學(xué)、、印制電路。

英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• BS ISO 13084:2018 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜分析 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀的質(zhì)量標(biāo)度校準(zhǔn)
• BS ISO 17862:2022 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜分析 單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析儀中強(qiáng)度標(biāo)度的線性
• 20/30409963 DC BS ISO 17862 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜分析 單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析儀中強(qiáng)度標(biāo)度的線性
• BS ISO 20411:2018 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜分析 單離子計數(shù)動態(tài)二次離子質(zhì)譜飽和強(qiáng)度校正方法
• BS ISO 13084:2011 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜.飛行時間二次離子質(zhì)譜用質(zhì)量標(biāo)度的校準(zhǔn)
• BS ISO 17862:2013 表面化學(xué)分析.次級離子質(zhì)譜法.單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析器強(qiáng)度標(biāo)的線性
• BS ISO 12406:2010 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜分析法.硅中砷的深度剖析法

國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• GB/T 40129-2021 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀質(zhì)量標(biāo)校準(zhǔn)
• GB/T 36240-2018 離子色譜儀
• GB/T 40109-2021 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 硅中硼深度剖析方法

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• JIS K 0127:1992 離子色譜儀分析通則
• JIS K 0157:2021 表面化學(xué)分析. 二次離子質(zhì)譜法. 渡越時間二次離子質(zhì)譜儀的質(zhì)量標(biāo)度的校準(zhǔn)
• JIS K 0155:2018 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜法 單離子計數(shù)時間飛行質(zhì)量分析儀中強(qiáng)度刻度的線性度
• JIS K 0158:2021 表面化學(xué)分析. 二次離子質(zhì)譜法. 單離子計數(shù)動態(tài)二次離子質(zhì)譜法中飽和強(qiáng)度的校正方法
• JIS K 0127:2001 離子色譜法分析通則
• JIS K 0127:2013 離子色譜法分析通則
• JIS K 0164:2023 表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜硅中硼深度分析方法

國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• ISO 13084:2011 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜分析法.飛行時間二次離子質(zhì)譜儀用質(zhì)量標(biāo)度的校準(zhǔn)
• ISO 13084:2018 表面化學(xué)分析 - 二次離子質(zhì)譜法 - 用于飛行時間二次離子質(zhì)譜儀的質(zhì)譜的校準(zhǔn)
• ISO 178:1975 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜法.單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析儀中強(qiáng)度標(biāo)度的線性
• ISO 17862:2022 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜法.單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析儀中強(qiáng)度標(biāo)度的線性
• ISO 17862:2013 表面化學(xué)分析——二次離子質(zhì)譜法——單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析儀中強(qiáng)度標(biāo)度的線性
• ISO 178:2019 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜法.單離子計數(shù)飛行時間質(zhì)量分析儀中強(qiáng)度標(biāo)度的線性
• ISO/TS 22933:2022 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜法.模擬離子質(zhì)譜中質(zhì)量分辨率的測量方法
• ISO 12406:2010 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜分析法.硅中砷的深度剖析法
• ISO 20411:2018 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜法.單離子計數(shù)動態(tài)二次離子光譜法中飽和強(qiáng)度的校正方法
• ISO 22048:2004 表面化學(xué)分析——靜態(tài)二次離子質(zhì)譜信息格式

GSO，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• GSO ISO 13084:2013 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀的質(zhì)量標(biāo)度校準(zhǔn)
• BH GSO ISO 13084:2016 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀的質(zhì)量標(biāo)度校準(zhǔn)
• OS GSO ISO 13084:2013 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀的質(zhì)量標(biāo)度校準(zhǔn)
• GSO ISO 18114:2013 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 離子標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)相對靈敏度因子的測定
• BH GSO ISO 17560:2016 表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜硅中硼深度分析方法
• BH GSO ISO 23830:2016 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 靜態(tài)二次離子質(zhì)譜中相對強(qiáng)度標(biāo)度的重復(fù)性和穩(wěn)定性
• OS GSO ISO 23830:2013 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 靜態(tài)二次離子質(zhì)譜中相對強(qiáng)度標(biāo)度的重復(fù)性和穩(wěn)定性
• OS GSO ISO 12406:2013 表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜法硅中砷的深度分析方法
• GSO ISO 23830:2013 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 固定二次離子質(zhì)譜中相對密度標(biāo)度的重復(fù)性和穩(wěn)定性

SCC，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• 10/30199193 DC BS ISO 13084 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜法 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀質(zhì)量標(biāo)度的校準(zhǔn)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-醫(yī)藥，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• YY/T 1740.3-2024 醫(yī)用質(zhì)譜儀 第3部分：電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• KS M 0035-1993 離子色譜分析通則
• KS M 0035-2008(2023) 離子色譜分析通則
• KS M 0035-2023 離子色譜分析通用規(guī)則
• KS D ISO 18114-2005(2020) 表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜法離子注入標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)相對靈敏度因子的測定
• KS D ISO 18114-2020 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜法 離子注入標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)相對靈敏度因子的測定
• KS I ISO 17294-2014 電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）在水質(zhì)分析中的應(yīng)用

US-ACEI，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• IPC TM-650 2.3.28-1995 電路板的離子分析離子色譜法

IPC - Association Connecting Electronics Industries，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• IPC TM-650 2.3.28B-2012 電路板的離子分析 離子色譜法
• IPC TM-650 2.3.28A-2004 電路板的離子分析 離子色譜法

工業(yè)和信息化部，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• YS/T 1496-2021 鈀化合物分析方法 雜質(zhì)陰離子含量測定 離子色譜法
• YS/T 1497-2021 鉑化合物分析方法 雜質(zhì)陰離子含量測定 離子色譜法

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-教育，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• JY/T 0568-2020 電感耦合等離子體質(zhì)譜分析方法通則
• JY/T 0575-2020 離子色譜分析方法通則
• JY/T 020-1996 離子色譜分析方法通則

美國材料與試驗協(xié)會，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• ASTM E1504-11 次級離子質(zhì)譜分析法中報告質(zhì)譜數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程

中國團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• T/ZPP 017-2023 質(zhì)譜流式細(xì)胞分析儀

國家質(zhì)檢總局，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• GB/T 25186-2010 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜.由離子注入?yún)⒖嘉镔|(zhì)確定相對靈敏度因子
• GB/T 43663-2024 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 靜態(tài)二次離子質(zhì)譜相對強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
• GB/T 32495-2016 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 硅中砷的深度剖析方法

國家藥監(jiān)局，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• YY/T 1795-2021 精子質(zhì)量分析儀

美國電子電路和電子互連行業(yè)協(xié)會，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• IPC TM-650 2.3.28-2004 離子色譜法,電路板離子分析 修訂版A

法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于質(zhì)譜 分析 儀 離子的標(biāo)準(zhǔn)

• NF ISO 23830:2009 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 二次離子靜態(tài)質(zhì)譜中相對強(qiáng)度標(biāo)度的重復(fù)性和穩(wěn)定性

本站其他標(biāo)準(zhǔn)專題： 質(zhì)譜 分析 儀 離子，離子 質(zhì)譜 分析，質(zhì)譜 分析 離子，離子分析質(zhì)譜，質(zhì)譜 分析 儀，質(zhì)譜+分析+儀，等離子 質(zhì)譜 分析，等離子質(zhì)譜 分析，質(zhì)譜 分析 母離子，離子阱質(zhì)譜 分析，元素 質(zhì)譜 分析 儀，質(zhì)譜 分析儀，顆粒 質(zhì)譜 分析 儀，質(zhì)譜 分析 儀 規(guī)格，過程 質(zhì)譜 分析 儀，氣體 質(zhì)譜 分析 儀，土壤 質(zhì)譜 分析 儀，質(zhì)譜 分析 儀 檢測，氫 質(zhì)譜 分析 儀，液體 質(zhì)譜 分析 儀。

 

可能用到的儀器設(shè)備