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俄歇電子能譜比x射線
本專題涉及俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)有113條。
國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，俄歇電子能譜比x射線涉及到電子元器件綜合、光學(xué)和光學(xué)測量、無損檢測、分析化學(xué)、長度和角度測量、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、犯罪行為防范、光學(xué)設(shè)備、有色金屬、醫(yī)學(xué)科學(xué)和保健裝置綜合、計量學(xué)和測量綜合。
在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，俄歇電子能譜比x射線涉及到標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、光學(xué)測試儀器、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、綜合測試系統(tǒng)、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、化學(xué)、犯罪鑒定技術(shù)、輕金屬及其合金分析方法、電子測量與儀器綜合、電化學(xué)、熱化學(xué)、光學(xué)式分析儀器、顏料、。
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- SJ/T 10458-1993 俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則
- SJ/T 10714-1996 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標(biāo)準(zhǔn)方法
美國材料與試驗協(xié)會，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- ASTM E995-16 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E996-10(2018) 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
- ASTM E996-19 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
- ASTM E996-04 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
- ASTM E996-10 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
- ASTM E996-94(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
- ASTM E995-11 在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E1217-11(2019) 用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測到的信號的樣品區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)實踐
- ASTM E1217-11 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程
- ASTM E1217-00 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)范
- ASTM E1217-05 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)范
- ASTM E2108-16 X射線光電子能譜儀的電子結(jié)合能量標(biāo)尺的標(biāo)準(zhǔn)實踐
- ASTM E2735-14(2020) 用于選擇X射線光電子能譜所需校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E902-94(1999) 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
- ASTM E1523-97 X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E1523-15 X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E1588-10e1 掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)指南
國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強度標(biāo)的線性
- ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
- ISO 17109:2022 表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測定濺射速率的方法
- ISO/TR 19319:2003 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
- ISO 20903:2019 表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強度的方法和報告結(jié)果時所需的信息
- ISO 17109:2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
- ISO 20903:2011 表面化學(xué)分析.俄歇電子能普和X射線光電子光譜.通報結(jié)果所需峰值強度和信息的測定方法
- ISO/DIS 18118:2023 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和 X 射線光電子能譜 使用實驗確定的相對靈敏度因子進行均質(zhì)材料定量分析的指南
- ISO/FDIS 18118:2023 表面化學(xué)分析 - 俄歇電子能譜和 X 射線光電子能譜 - 使用實驗確定的相對靈敏度因子進行均質(zhì)材料定量分析的指南
- ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 評估X射線光電子能譜儀日常性能的方法
- ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程
- ISO 18118:2004 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感性因子的使用指南
- ISO 18118:2015 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感性因子的使用指南
- ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
- ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜分析指南
- ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則
- ISO/CD TR 18392:2023 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜 確定背景的程序
- ISO 15470:2017 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明
- ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 氧化硅厚度的測量
- ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
- ISO 14701:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量
- ISO 13424:2013 表面化學(xué)分析——X射線光電子能譜；薄膜分析結(jié)果的報告
- ISO 16243:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- KS D ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強度標(biāo)的線性
- KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強度標(biāo)度的線性
- KS D ISO 19319-2005(2020) 表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定
- KS D ISO 19319:2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
- KS D ISO 18118-2005(2020) 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜均勻材料定量分析用實驗測定的相對靈敏度因子的使用指南
- KS D ISO 18118:2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感性因子的使用指南
- KS D ISO 15470-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀部分性能參數(shù)說明
國家質(zhì)檢總局，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 21006-2007 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標(biāo)的線性
- GB/T 28632-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
- GB/T 31470-2015 俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則
- GB/T 28893-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強度的方法和報告結(jié)果所需的信息
- GB/T 29556-2013 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定
- GB/T 30702-2014 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實驗測定的相對靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南
- GB/T 25184-2010 X射線光電子能譜儀鑒定方法
- GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則
- GB/T 30704-2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
- GB/T 17359-1998 電子探針和掃描電鏡X射線能譜定量分析通則
- GB/T 22571-2008 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀.能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)
- GB/T 18873-2002 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線 能譜定量分析通則
- GB/T 18873-2008 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線能譜定量分析通則
- GB/Z 32490-2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序
- GB/T 28892-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述
- GB/T 17507-2008 透射電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣的通用技術(shù)條件
- GB/T 17507-1998 電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣通用技術(shù)條件
英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- BS ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度尺度的線性
- BS ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子和俄歇電子光譜儀.強度標(biāo)的線性度
- BS ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
- BS ISO 20903:2019 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 用于確定峰值強度的方法和報告結(jié)果時所需的信息
- BS ISO 20903:2011 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測定峰強度的方法和報告結(jié)果要求的信息
- BS ISO 17109:2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
- BS ISO 17109:2022 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單層和多層薄膜的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率的測定方法...
- 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單一和……的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率測定方法
- BS ISO 18118:2015 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 使用實驗確定的相對靈敏度因子進行均質(zhì)材料定量分析的指南
- 23/30461294 DC BS ISO 18118 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 使用實驗確定的相對靈敏度因子進行均質(zhì)材料定量分析的指南
- BS ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序
- BS ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程
- BS ISO 18118:2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感性系數(shù)的使用指南
- BS ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
- BS ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
- BS ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
- BS ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度的測量
- BS ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
- BS ISO 14701:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量
- BS ISO 16243:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
未注明發(fā)布機構(gòu)，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- BS ISO 21270:2004(2010) 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標(biāo)度線性度
- BS ISO 18516:2006(2010) 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率的測定
國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 36504-2018 印刷線路板表面污染物分析 俄歇電子能譜
- GB/T 41064-2021 表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法
- GB/T 41073-2021 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報告的基本要求
- GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報告
法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- NF X21-058:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測定峰強度使用的方法和報告結(jié)果時需要的信息
- NF X21-071:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則
- NF X21-073*NF ISO 16243:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
- NF ISO 16243:2012 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜(XPS)中的數(shù)據(jù)記錄和報告
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- JIS K 0167:2011 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感因子的使用指南
德國標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- DIN ISO 16129:2020-11 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序
- DIN ISO 16129:2020 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
- DIN ISO 15472:2020-05 表面化學(xué)分析 - X 射線光電子能譜儀 - 能量標(biāo)度校準(zhǔn) (ISO 15472:2010)
- DIN ISO 15472:2020 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能標(biāo)校準(zhǔn)（ISO 15472:2010）；英文文本
澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- AS ISO 18118:2006 表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實驗測定的相對靈敏系數(shù)使用指南
- AS ISO 15472:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．能量標(biāo)度的校準(zhǔn)
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-司法，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- SF/T 0139-2023 泥土檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-有色金屬，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- YS/T 739-2010 鋁電解質(zhì)分子比及主要成分的測定X射線熒光光譜法
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 22571-2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)
KR-KS，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- KS D ISO 15472-2003(2023) 表面化學(xué)分析-X射線光電子能譜儀-能量刻度的校準(zhǔn)
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-公共安全標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- GA/T 1939-2021 法庭科學(xué) 電流斑檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
- GA/T 1522-2018 法庭科學(xué) 射擊殘留物檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
- GA/T 1938-2021 法庭科學(xué) 金屬檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
- GA/T 1937-2021 法庭科學(xué) 橡膠檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
福建省地方標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- DB35/T 110-2000 油漆物證檢測電子探針和掃描電鏡X射線能譜分析方法
廣東省標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于俄歇電子能譜比x射線的標(biāo)準(zhǔn)
- DB44/T 1216-2013 利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征石墨烯的特性
