激光直寫的工作原理是怎樣的？
激光直寫是制作衍射光學(xué)元件的主要技術(shù)之一，可在光刻膠的表面直接寫入多臺階、連續(xù)位相浮雕微結(jié)構(gòu)，與二元光學(xué)方法相比，工藝簡單，避免了多套掩模之間的套刻對準環(huán)節(jié)，改善了DOE的加工精度，從而提高DOE的衍射效率。
激光直寫
激光直寫的原理：
激光直寫是利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影后在抗蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓。激光直寫系統(tǒng)的基本工作原理是由計算機控制高精度激光束掃描，在光刻膠上直接曝光寫出所設(shè)計的任意圖形，從而把設(shè)計圖形直接轉(zhuǎn)移到掩模上。
激光直寫系統(tǒng)的主要由激光器、聲光調(diào)制器、投影光刻物鏡、CCD攝像機、顯示器、照明光源、工作臺、調(diào)焦裝置、激光干涉儀和控制計算機等部分構(gòu)成。
激光直寫的基本工作流程是：用計算機產(chǎn)生設(shè)計的微光學(xué)元件或待制作的VLSI掩摸結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)；將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成直寫系統(tǒng)控制數(shù)據(jù)，由計算機控制高精度激光束在光刻膠上直接掃描曝光；經(jīng)顯影和刻蝕將設(shè)計圖形傳遞到基片上。
主要功能：
最小描繪尺寸: 0.7 μm
最小直寫尺寸: 20 nm
5種描繪模式
可轉(zhuǎn)換成自動描繪模式
進階 3維 繪畫方式
量測/ 校直用照相機系統(tǒng)
選擇可能的激光來源
可在線上傳送繪畫數(shù)據(jù)
自動基板加載系統(tǒng)
多種多樣的繪畫數(shù)據(jù)輸入格式(DXF,CIF,GDSII,Gerber,STL)
